Hellma CaF2氟化钙晶体用于高功率激光系统

更新时间：2026-03-13

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Hellma CaF2氟化钙晶体：光学领域的核心材料

Hellma CaF2（氟化钙）晶体是德国Hellma Materials公司研发的高性能光学材料，凭借宽谱透射、低色散及高激光耐久性等特性，成为半导体微光刻、高功率激光、空间光学等领域的重要应用材料。该晶体依托德国精密制造工艺，在光学精度和环境适应性上表现出稳定的性能优势，满足光学系统的严苛使用需求。

核心性能与关键参数

透射波段	130nm–8μm
折射率（nd）	1.43384
阿贝数（vd）	95.23
单晶直径	250mm
熔点	1418°C

Hellma CaF2晶体显著的优势是宽谱透射性能，覆盖深紫外到红外全光谱，在193nm、248nm等准分子激光关键波长下，10mm厚度晶体内部透射率可达99.4%以上，适配半导体光刻系统的光束传输需求。其低色散特性可有效减少光学色差，阿贝数远超普通光学玻璃，保障高精度成像效果。

在制造工艺上，Hellma采用真空Stockbarger技术生长高纯度单晶，可制备440mm直径多晶，折射率均匀性控制在15ppm以内，应力双折射低于3nm/cm RMS。该晶体具备良好的环境适应性，热导率9.71 W/(m·K)，可耐受太空辐射、高能激光脉冲等工况，广泛应用于7nm及以下制程光刻机、天文观测设备、高功率激光系统等场景，为光学装备提供稳定的材料支撑。

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