SUSS光罩对准机MJB4

SUSS光罩对准机MJB4 主要用于MEMS微结构加工、半导体分立器件制作、芯片封装工艺、光学器件刻蚀等工序，同时也适用于高校、科研院所的微纳工艺教学与材料研究。

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厂商性质：经销商
更新时间：2026-06-01
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SUSS光罩对准机MJB4

SUSS MicroTec在半导体微纳加工与光刻设备领域拥有深厚技术积累，MJB4光罩对准机是面向实验室研发、小批量试制及中试产线推出的经典机型，广泛应用于MEMS器件、分立半导体、先进封装及光学元件等领域的光刻工艺。设备依托成熟的对准与曝光技术，兼顾操作灵活性与工艺稳定性，成为科研机构与中小型生产企业常用的光刻配套设备。

对准系统

MJB4搭载高精度视觉对准系统，可完成晶圆与光罩的精准对位，适配多种规格基板加工需求。设备支持多种对准模式，能够应对常规晶圆、异形衬底以及经过减薄、键合处理的特殊工件，对准表现稳定。整机采用成熟的机械传动结构，运行过程振动小，可有效保障整片区域图案转移的一致性，满足常规线宽的加工要求。

结构设计

该设备采用近距曝光工作方式，结构布局简洁，不受光学焦深限制，可适配常规光刻胶与一定厚度的厚胶曝光作业。机身采用模块化设计，光路、载台、操控单元布局合理，日常清洁、耗材更换与部件检修流程简便。设备整体占地面积适中，可灵活布置在洁净实验室与无尘车间内部，场地适配性良好。

技术参数

参数项目	技术指标
设备类型	台式光罩对准曝光机
曝光方式	近距接触式曝光
适用场景	研发实验、小批量试制
结构特点	模块化结构，维护便捷

SUSS光罩对准机MJB4