MLase准分子激光器MLI-ARF 1000 是半导体微加工、材料刻蚀及科研实验领域的核心配套光源，适配严苛的工业与科研应用场景。

MLase准分子激光器MLI-ARF 1000

MLase MLI-ARF 1000是一款面向工业精密加工与科研设计的ArF准分子激光器，以氟化氩为工作气体，输出193 nm深紫外光，单脉冲能量达1000 mJ，兼顾高能量输出与精准的光束控制，是半导体微加工、材料刻蚀及科研实验领域的核心配套光源，适配严苛的工业与科研应用场景。

核心技术参数

核心设计与应用特性

该激光器采用金属-陶瓷复合谐振腔结构，放电区电场均匀性＞95%，确保脉冲能量输出稳定；腔内棱线滤波器将光谱带宽压缩至＜0.8 pm，满足高精度光刻与刻蚀对窄线宽的需求。其193 nm短波长特性可实现0.1 µm级加工精度，热影响区＜50 nm，适配PI膜、LCP等高分子材料的冷加工，无碳化、无微裂纹缺陷。

在实际应用中，该设备可适配12英寸晶圆微加工、TFT-LCD激光退火等工业场景，也可作为脉冲激光沉积（PLD）的核心光源用于功能薄膜制备；模块化设计支持功率升级与光谱监测功能拓展，整机电磁兼容符合工业级标准，可在复杂电磁环境中稳定运行，为制造与科研实验提供可靠的深紫外激光解决方案。

MLase准分子激光器MLI-ARF 1000